Samsung Electronics начала производство чипов на основе экстремальной ультрафиолетовой литографии (Extreme Ultraviolet Lithography, EUV). Для этого компания запустила новую производственную линию V1 в Южной Корее.
На этом предприятии теперь изготавливаются 6- и 7-нм микросхемы, в будущем планируется производство 3-нм продуктов. Samsung установила на заводе не менее 10 EUV-сканеров и потратила на это более 1 млрд долларов. Общие инвестиции в проект не раскрываются.
Южнокорейский гигант намерен увеличить производство на линии V1, а также на линии S3, в результате чего объем выпуска чипов с технологическими нормами от 7 нм и ниже в 2020 году должны утроиться по сравнению с 2019-м. Компания освоила 7-нм техпроцесс на коммерческом уровне в 2017-м, а 5-нм — в апреле 2019-го, напоминает издание ZDNet.
В ближайшие 10 лет Samsung намерена потратить около 116 млрд долларов на контрактное производство полупроводниковой продукции. 64 млрд долларов пойдут на исследования и разработки (R&D), а оставшиеся 69 млрд долларов будут инвестированы в расширение производственных мощностей, что позволит создать 15 тысяч новых рабочих мест.
Источник: dailycomm.ru
